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等離子清洗設(shè)備之低溫等離子體發(fā)生技術(shù)

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等離子清洗設(shè)備之低溫等離子體發(fā)生技術(shù)

發(fā)布日期:2018-03-17 作者:admin 點(diǎn)擊:

等離子清洗設(shè)備由于應(yīng)用領(lǐng)域的不同,對(duì)等離子體的參數(shù)要求不一樣,因而也就形成了低溫等離子體發(fā)生技術(shù)及其物理性質(zhì)的研究,描述等離子體特性的參數(shù)主要是粒子的平均自由程、德拜長(zhǎng)度、等離子體溫度和平均電子能量,等離子清洗設(shè)備對(duì)應(yīng)于不同的應(yīng)用,要求的等離子體參數(shù)不同,相應(yīng)的等離子體發(fā)生技術(shù)也不同。


產(chǎn)生低溫等離子體的手段很多,可用紫外輻射、X射線、電磁場(chǎng)、加熱等方法,實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)產(chǎn)品大都采用電磁場(chǎng)激發(fā)等離子體——等離子清洗設(shè)備,如直流輝光放電、射頻放電、微波放電和介質(zhì)阻擋放電等。



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